La pulvérisation magnétron réactive est une technique mature pour déposer une fine couche de composé sur une large gamme de substrats comme couche supérieure ou comme couche intermédiaire dans un revêtement multicouche. La portée de "mince" va de quelques nanomètres à plusieurs micromètres.
Pourquoi un magnétron crachote-t-il ?
La pulvérisation magnétron est le processus de collision entre les particules incidentes et les cibles … La pulvérisation magnétron augmente la densité du plasma en introduisant un champ magnétique à la surface de la cathode cible et en utilisant les contraintes de le champ magnétique sur les particules chargées pour augmenter le taux de pulvérisation.
Qu'entend-on par pulvérisation réactive ?
La pulvérisation cathodique réactive est un processus qui permet de déposer des composés en introduisant un gaz réactif (généralement de l'oxygène ou de l'azote) dans le plasma qui est généralement formé par un gaz inerte tel que argon (le plus courant), xénon ou krypton.
Comment fonctionne la pulvérisation magnétron ?
La pulvérisation cathodique magnétron est une technologie de dépôt impliquant un plasma gazeux qui est généré et confiné dans un espace contenant le matériau à déposer – la « cible ». … Ces collisions provoquent une répulsion électrostatique qui "élimine" les électrons des atomes de gaz pulvérisés, provoquant une ionisation.
Pourquoi la radiofréquence émet-elle des crachotements ?
RF ou Radio Frequency Sputtering est la technique impliquée dans l' alternance du potentiel électrique du courant dans l'environnement de vide à des fréquences radio pour éviter une accumulation de charge sur certains types de matériaux cibles de pulvérisation, qui au fil du temps peut entraîner un arc électrique dans le plasma qui crache des gouttelettes…
